在科技界，光刻机是一项至关重要的技术，它被广泛用于芯片制造过程中，近年来，随着国内芯片产业的快速发展，国产DUV光刻机的研发和推广也取得了显著进展，为了满足市场需求，工信部最近公开推广了两款国产DUV光刻机，它们分别是：

1、上海微电子装备有限公司（SMEE）的MEE-1000型光刻机：

- MEE-1000型光刻机是一款先进的DUV光刻机，它采用了紫外光（UV）光源，可以实现高精度的芯片制造。

- 该设备采用了先进的技术和工艺，具有出色的稳定性和可靠性。

- MEE-1000型光刻机的推广将有力推动国内芯片产业的发展，并为国内芯片制造商提供更多的选择。

2、华中科技大学研发的激光干涉仪测量光刻机：

- 华中科技大学研发的激光干涉仪测量光刻机是一种基于激光干涉技术的测量设备，可以对芯片制造过程中的关键尺寸进行精确测量。

- 该设备具有高度的测量精度和稳定性，能够满足芯片制造过程中的严苛要求。

- 激光干涉仪测量光刻机的推广将有助于提升国内芯片制造过程中的质量控制和精度保障能力。

两款国产DUV光刻机的推广对于国内芯片产业的发展具有重要意义，它们将为国内芯片制造商提供更多的选择，提升芯片制造过程中的精度和稳定性，促进国内芯片产业的快速发展，我们相信，随着技术的不断进步和发展，国产DUV光刻机将在芯片制造领域发挥越来越重要的作用。